특허·상표 등 국제출원 쉬워진다
등록일 : 2009.05.11
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내년부터 특허와 상표, 디자인의 국제출원이 한층 쉬워질 전망입니다.
특허청에 따르면 내년부터 한·미·일·유럽간에 공통으로 적용되는 특허출원 서식이 도입돼, 출원인들은 단순 번역만 하더라도 외국 특허청에 출원이 가능해집니다.
상표권 갱신도 편리해져, 등록료를 내고 갱신등록 출원을 해야 하던 것에서 심사절차
없이 신청만 하면 존속기간이 연장됩니다.
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